尼康日前正式宣布，开发出了开口数（NA）为1.30的液浸ArF曝光设备“NSR-S610C”，将于2006年第4季度开始销售。分辨率为45nm，可用于半间距45nm的内存和32nm工艺逻辑LSI的量产。

该公司过去曾介绍说将于2006年下半年供应NSR-S610C，看来其开发工作基本符合预定计划。这款NA1.30的曝光设备采用由反射镜和折射透镜组成的反射折射型光学系统。对于该光学系统，尼康表示：“采用了不会产生光斑和热像差问题的设计与生产方式，能够得到稳定的成像性能。”

该设备在开发过程中运用了尼康在2006年1月推出的NA1.07液浸ArF曝光设备“NSR-S609B”中积累的液浸曝光技术。利用特有的载物台技术“串联载物台”，实现了高吞吐量、高校准精度和稳定的曝光过程。校准精度在3σ下为6.5nm，吞吐量为每小时130枚300mm晶圆。

利用该公司自主的“Local-fill Nozzle（局部液浸喷嘴）”技术，基本上能够完全防止液浸导致的缺陷，同时还实现了与干式曝光相同或更高的重合精度。另外，为了提高分辨率，采用了自主开发的第4代“POLANO”偏光照明技术（发布资料）。